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主要內容:噴霧沉積技術制備了低貴金屬含量(0.2-0.3 mg/cm2)的PEM水電解膜電極(以下簡稱PEM-MEA)。在穩態工況下測試了5000 h,討論衰減機理。


Introduction:


PEM水電解優勢:①高電流密度;②更高的操作壓力(可>50 bar);③氫氣純度更高。


限制因素:①高貴金屬含量;②耐久性;③氫氣滲透。

衰減的環境因素:陽極高電壓與低PH(約1)。


實驗參數:

活性面積:86 cm2

穩態測試電流:1.8 A/cm2

氫氣壓力:400 psi

溫度:50℃

時間:5000 h

CCM組成:見圖1,在N117與N211間有一個Pt Recombination layer(RL),可以抑制氫氣泄漏。詳情可見:東芝:金屬Ir降低至1/10!


Nel:PEM-MEA陰陽極衰減機理研究

圖1 CCM結構圖。


耐久性測試結果

   圖2(a)前3000 h衰減速度是37μV/h,后2000h衰減速度為15μV/h,這個不是特別理解為什么。商業化需求是70000h壽命,衰減速度<6μV/h。

   Nel baseline是Nel公司自己的PEM-MEA初始性能(Ir載量為3mg/cm2)。

   圖2d,引入RL層,可抑制氫氣泄漏(安全值要求<10% LFL)。電流密度越大,陽極氫氣百分比越少的原因:陰極維持400psi不變,氫氣透過量恒定,電流越高,氧氣越多,稀釋了氫氣濃度。

Nel:PEM-MEA陰陽極衰減機理研究

圖2 PEM-MEA耐久性測試結果。


陽極失效模式:

    陽極催化層減薄、Ir溶解沉積在膜上形成Ir帶(圖3b)、陽極PTL中Pt與基底分離(圖3d)。

Nel:PEM-MEA陰陽極衰減機理研究

圖3 陽極催化層HADDF-STEM。


陰極失效模式:

   Pt溶解、遷移、團聚。有意思的是在靠近陰極一側膜內出現了PtIr合金顆粒(H2還原所致,圖4)。

Nel:PEM-MEA陰陽極衰減機理研究

圖4 靠近陰極催化層膜內顆粒表征。


Ir、Pt5000h后元素分布:

  

    Ir從陽極橫穿陰極,Pt到不了陽極(圖5)

Nel:PEM-MEA陰陽極衰減機理研究

圖5 5000h后Ir、Pt元素分布


思考:

    陽極Ir的溶解(有30%)是MEA衰減的主要因素,降低操作電壓是一個可行的路徑,但降低電壓會使電流密度降低,因此需要提高PEM-MEA性能!



原文始發于微信公眾號(氫能漫談):Nel:PEM-MEA陰陽極衰減機理研究

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